Линзы для лазерного станка

Линза Орех 300 мм.  Позволяет задействовать поле 300*300 увеличивает или уменьшает глубину гравировки. Линза изготовлена из силикатного стекла самого высокого класса, которое закреплено в прецизионной оптомеханической оснастке, чтобы минимизировать расфокусировку и предоставить невероятно ровное качество пятна лазера на всей поверхности поля обработки, благодаря своему телецентрическому исполнению. Дизайн объектива также уменьшает обратные отражения входящего лазерного луча, что значительно снижает риск повреждения зеркал в системе обработки. Стекло обработано широкополосным и оптимизированным по угловым отражениям покрытием низкого поглощения, благодаря которому объектив подходит для использования с большим количеством лазерных систем.

Линза Орех 100 мм.  Позволяет задействовать поле 100*100 увеличивает или уменьшает глубину гравировки. Линза изготовлена из силикатного стекла самого высокого класса, которое закреплено в прецизионной оптомеханической оснастке, чтобы минимизировать расфокусировку и предоставить невероятно ровное качество пятна лазера на всей поверхности поля обработки, благодаря своему телецентрическому исполнению. Дизайн объектива также уменьшает обратные отражения входящего лазерного луча, что значительно снижает риск повреждения зеркал в системе обработки. Стекло обработано широкополосным и оптимизированным по угловым отражениям покрытием низкого поглощения, благодаря которому объектив подходит для использования с большим количеством лазерных систем.

Линза – это основной оптический элемент для устройств лазерного станка СО2. Фокусирующая линза предназначена для концентрации энергии лазера, испускаемого из лазерного источника и передаваемого по оптическому тракту, в минимально возможную площадь. Используется в оптических системах CO2-лазеров высокой мощности.

Линза Орех 110 мм.  Позволяет задействовать поле  110*110 увеличивает или уменьшает глубину гравировки. Линза изготовлена из силикатного стекла самого высокого класса, которое закреплено в прецизионной оптомеханической оснастке, чтобы минимизировать расфокусировку и предоставить невероятно ровное качество пятна лазера на всей поверхности поля обработки, благодаря своему телецентрическому исполнению. Дизайн объектива также уменьшает обратные отражения входящего лазерного луча, что значительно снижает риск повреждения зеркал в системе обработки. Стекло обработано широкополосным и оптимизированным по угловым отражениям покрытием низкого поглощения, благодаря которому объектив подходит для использования с большим количеством лазерных систем.

Линза предназначена для фокусировки луча, закрепляется в прецизионной оптомеханической оснастке, чтобы минимизировать расфокусировку и предоставить невероятно ровное качество ркза лазера на всей поверхности поля обработки, благодаря своему телецентрическому исполнению.

Линза Орех 200 мм.  Позволяет задействовать поле  200*200 увеличивает или уменьшает глубину гравировки. Линза изготовлена из силикатного стекла самого высокого класса, которое закреплено в прецизионной оптомеханической оснастке, чтобы минимизировать расфокусировку и предоставить невероятно ровное качество пятна лазера на всей поверхности поля обработки, благодаря своему телецентрическому исполнению. Дизайн объектива также уменьшает обратные отражения входящего лазерного луча, что значительно снижает риск повреждения зеркал в системе обработки. Стекло обработано широкополосным и оптимизированным по угловым отражениям покрытием низкого поглощения, благодаря которому объектив подходит для использования с большим количеством лазерных систем.

Линза – это основной оптический элемент для устройств лазерного станка СО2. Фокусирующая линза предназначена для концентрации энергии лазера, испускаемого из лазерного источника и передаваемого по оптическому тракту, в минимально возможную площадь. Используется в оптических системах CO2-лазеров высокой мощности.

Линза – это основной оптический элемент для устройств лазерного станка СО2. Фокусирующая линза предназначена для концентрации энергии лазера, испускаемого из лазерного источника и передаваемого по оптическому тракту, в минимально возможную площадь. Используется в оптических системах CO2-лазеров высокой мощности.

Линза Орех 175 мм.  Позволяет задействовать поле  175*175 увеличивает или уменьшает глубину гравировки. Линза изготовлена из силикатного стекла самого высокого класса, которое закреплено в прецизионной оптомеханической оснастке, чтобы минимизировать расфокусировку и предоставить невероятно ровное качество пятна лазера на всей поверхности поля обработки, благодаря своему телецентрическому исполнению. Дизайн объектива также уменьшает обратные отражения входящего лазерного луча, что значительно снижает риск повреждения зеркал в системе обработки. Стекло обработано широкополосным и оптимизированным по угловым отражениям покрытием низкого поглощения, благодаря которому объектив подходит для использования с большим количеством лазерных систем.

Линза позволяет задействовать рабочее поле увеличивает или уменьшает глубину гравировки. предназначена для фокусировки лазерного луча на определенном расстоянии, которое называется фокусным. Фокусное расстояние влияет на угол луча и его пятно. Длиннофокусные линзы лучше применять при раскрое толстых материалов.